Поиск

Эпитаксиальный рост гетероструктур GaN/AlN/InAlN для HEMT в горизонтальных МОС-гидридных реакторах различных конструкций

Авторы: Цацульников, А. Ф. Лундин, В. В. Сахаров, А. В. Заварин, Е. Е. Усов, С. О. Николаев, А. Е. Яговкина, М. А. Устинов, В. М. Черкашин, Н. А.
Краткая информация
Маркер записи n
Контрольный номер RU/IS/BASE/674837820
Дата корректировки 15:19:10 20 мая 2021 г.
Служба первич. каталог. Шавель
Код языка каталог. rus
Правила каталог. PSBO
Код языка издания rus
Индекс УДК 621.315.592
Цацульников, А. Ф.
Эпитаксиальный рост гетероструктур GaN/AlN/InAlN для HEMT в горизонтальных МОС-гидридных реакторах различных конструкций
Электронный ресурс
Epitaxial growth of GaN/AlN/InAlN heterostructures for HEMTs in horizontal MOCVD reactors with different designs
Иллюстрации/ тип воспроизводства ил., табл.
Библиография Библиогр.: 19 назв.
Аннотация Исследован эпитаксиальный рост слоев InAlN и транзисторных гетероструктур GaN/AlN/InAlN на установках с реакторами горизонтального типа, имеющими различные размеры: 1 * 2'', 3 * 2'' и 6 * 2''. Исследования структурных свойств выращенных слоев InAlN и электрофизических параметров гетероструктур GaN/AlN/InAlN показало, что оптимальное качество эпитаксиального роста достигается при компромиссных между выращиванием InGaN и AlGaN условиях. Сравнение эпитаксиального роста в различных реакторах показало, что оптимальные условия реализуются на малообъемных реакторах, позволяющих подавить паразитные реакции в газовой фазе. При этом размеры реактора должны быть достаточны для обеспечения высокой однородности параметров гетероструктур по площади для последующего изготовления приборов. Определены оптимальные составы и толщины слоев InAlN для реализации максимальной проводимости транзисторных гетероструктур GaN/AlN/InAlN.
Ключевые слова гетероструктуры
транзисторные гетероструктуры
нитрид галлия
нитрид алюминия
нитрид индия-алюминия
эпитаксиальное выращивание
МОС-гидридные реакторы
Лундин, В. В.
Сахаров, А. В.
Заварин, Е. Е.
Усов, С. О.
Николаев, А. Е.
Яговкина, М. А.
Устинов, В. М.
Черкашин, Н. А.
Название источника Физика и техника полупроводников
Место и дата издания 2016
Прочая информация Т. 50, вып. 9. - С. 1263-1269
Имя макрообъекта Цацульников_эпитаксиальный
Тип документа b