Поиск

Гетероструктуры метаморфных GaInAs-фотопреобразователей, полученные методом МОС-гидридной эпитаксии на подложках GaAs

Авторы: Минтаиров, С. А. Емельянов, В. М. Рыбальченко, Д. В. Салий, Р. А. Тимошина, Н. Х. Шварц, М. З. Калюжный, Н. А.
Краткая информация
Маркер записи n
Контрольный номер RU/IS/BASE/670604971
Дата корректировки 15:20:02 1 апреля 2021 г.
Служба первич. каталог. Шавель
Код языка каталог. rus
Правила каталог. PSBO
Код языка издания rus
Индекс УДК 621.315.592
Минтаиров, С. А.
Гетероструктуры метаморфных GaInAs-фотопреобразователей, полученные методом МОС-гидридной эпитаксии на подложках GaAs
Текст
Heterostructures of metamorphic GaInAs photo-converters grown by MOCVD on GaAs substrates
Иллюстрации/ тип воспроизводства ил., табл.
Библиография Библиогр.: 12 назв.
Аннотация Методом МОС-гидридной эпитаксии получены гетероструктуры метаморфных GaInAs-фотопреобразователей подложках GaAs. Показано, что использование многослойного метаморфного буфера с шагом по содержанию индия 2.5% и толщине слоев 120 нм обеспечивает высокое качество последующих объемных слоев вплоть до концентрации индия ~ 24%. Получены фотопреобразователи с длинноволновым краем фоточувствительности вплоть до 1300 нм и уровнем квантового выхода фотоответа в диапазоне 1050-1100 нм ~ 80%. Анализ напряжения холостого хода фотопреобразователей и диффузионных длин неосновных носителей заряда в слоях позволил установить, что при содержании индия > 10% происходит возрастание плотности дислокаций, прорастающих в объемные слои.
Ключевые слова гетероструктуры
фотопреобразователи
МОС-гидридная эпитаксия
арсенид галлия-индия
арсенид галлия
галлий
индий
полупроводники
Емельянов, В. М.
Рыбальченко, Д. В.
Салий, Р. А.
Тимошина, Н. Х.
Шварц, М. З.
Калюжный, Н. А.
Название источника Физика и техника полупроводников
Место и дата издания 2016
Прочая информация Т. 50, вып. 4. - С. 525-530
Имя макрообъекта Минтаиров_гетероструктуры
Тип документа b