Поиск

Рост твердых растворов InAs[x]Sb[1-x] на отклоненных подложках GaAs(001) методом молекулярно-лучевой эпитаксии

Авторы: Емельянов, Е. А. Васёв, А. В. Васев, А. В. Семягин, Б. Р. Есин, М. Ю. Лошкарев, И. Д. Василенко, А. П. Путято, М. А. Петрушков, М. О. Преображенский, В. В.
Краткая информация
Маркер записи n
Контрольный номер RU/IS/BASE/695900129
Дата корректировки 9:46:26 19 января 2022 г.
10.21883/FTP.2019.04.47451.8981
Служба первич. каталог. Шавель
Код языка каталог. rus
Правила каталог. PSBO
Код языка издания rus
Индекс УДК 621.315.592
Емельянов, Е. А.
Рост твердых растворов InAs[x]Sb[1-x] на отклоненных подложках GaAs(001) методом молекулярно-лучевой эпитаксии
Электронный ресурс
Иллюстрации/ тип воспроизводства ил., табл.
Библиография Библиогр.: 31 назв.
Аннотация Исследовано влияние степени отклонения подложки от сингулярной грани на состав и морфологию слоев при молекулярно-лучевой эпитаксии твердых растворов InAs[x]Sb[1-x] на поверхности GaAs. В качестве подложек использованы пластины GaAs с ориентацией (100), отклоненные в направлении [110] на 0, 1, 2 и 5°. Рост гетероструктур выполнен для температур 310 и 380°С. Изучено влияние молекулярной формы мышьяка (As[2] либо As[4]) на состав слоев. Исследования состава и структурных свойств осуществлены методами рентгеновской дифрактометрии высокого разрешения и атомно-силовой микроскопии. Установлено, что в ряду отклонений 0 - 5° доля мышьяка x последовательно увеличивается как при использовании потока молекул As[2], так и As[4]. При использовании потока молекул As[2] доля x с увеличением степени отклонения возрастает незначительно (в 1.05 раза), а при использовании молекул As[4] наблюдается ее возрастание в 1.75 раза. Повышение температуры роста приводит к увеличению доли мышьяка в твердом растворе. Морфология поверхности улучшается при увеличении степени отклонения при низкой температуре роста и ухудшается при высокой.
Служебное примечание Васёв, А. В.
Ключевые слова твердые растворы
молекулярно-лучевая эпитаксия
морфология поверхности
подложки GaAs
пленки твердых растворов
Васев, А. В.
Семягин, Б. Р.
Есин, М. Ю.
Лошкарев, И. Д.
Василенко, А. П.
Путято, М. А.
Петрушков, М. О.
Преображенский, В. В.
Физика и техника полупроводников
2019
Т. 53, вып. 4. - С. 512-519
Имя макрообъекта Емельянов_рост
Тип документа b