Поиск

Электрофизические и фотолюминесцентные исследования сверхрешeток {LT-GaAs/GaAs : Si}, выращенных методом молекулярно-лучевой эпитаксии на подложках GaAs с ориентацией (100) и (111)А

Авторы: Галиев, Г. Б. Пушкарёв, C. C. Климов, Е. А. Клочков, А. Н. Копылов, В. Б. Пушкарев, C. C.
Краткая информация
Маркер записи n
Контрольный номер RU/IS/BASE/695475026
Дата корректировки 11:36:24 14 января 2022 г.
10.21883/FTP.2019.02.47110.8918
Служба первич. каталог. Шавель
Код языка каталог. rus
Правила каталог. PSBO
Код языка издания rus
Индекс УДК 621.315.592
Галиев, Г. Б.
Электрофизические и фотолюминесцентные исследования сверхрешeток {LT-GaAs/GaAs : Si}, выращенных методом молекулярно-лучевой эпитаксии на подложках GaAs с ориентацией (100) и (111)А
Электронный ресурс
Иллюстрации/ тип воспроизводства ил., табл.
Библиография Библиогр.: 33 назв.
Аннотация Представлены результаты исследования впервые предложенных и выращенных полупроводниковых структур, сочетающих свойства LT-GaAs и p-тип проводимости при легировании кремнием. Структуры представляют собой сверхрешeтки {LT-GaAs/GaAs : Si}, где слои LT-GaAs выращены при низкой температуре, в диапазоне 280-350°С, а слои GaAs : Si - при более высокой температуре, 470°С. Дырочный тип проводимости при легировании кремнием обеспечивался использованием подложек GaAs (111)A, выбором температуры роста и соотношения потоков As4 и Ga. Концентрация дырок монотонно уменьшается с понижением температуры роста слоeв LT-GaAs от 350 до 280°С, что объясняется увеличением шероховатости границ раздела слоeв и формированием обеднeнных носителями заряда областей на границах слоeв GaAs : Si и LT-GaAs. Эволюция спектров фотолюминесценции при 77K, вызванная изменением температуры роста LT-GaAs, интерпретирована как обусловленная изменением концентрации точечных дефектов Ga[As], V[Ga], а также комплексов Si[Ga]-V[Ga], V[As]-Si[As], Si[As]-Si[Ga].
Пушкарёв, C. C.
Ключевые слова молекулярно-лучевая эпитаксия
спектроскопия фотолюминесценции
фотолюминесценция
сверхрешeточные структуры
подложки GaAs
арсенид галлия
Климов, Е. А.
Клочков, А. Н.
Копылов, В. Б.
Пушкарев, C. C.
Физика и техника полупроводников
2019
Т. 53, вып. 2. - С. 258-266
Имя макрообъекта Галиев_электрофизические
Тип документа b