Поиск

Применение компенсирующих слоев GaAsP для роста лазерных гетероструктур с квантовыми ямами InGaAs/GaAs, излучающих на длинах волн больше 1100 нм, на искусственных подложках Ge/Si

Авторы: Байдусь, Н. В. Алёшкин, В. Я. Алешкин, В. Я. Дубинов, А. А. Красильник, З. Ф. Некоркин, С. М. Новиков, А. В. Шалеев, М. В. Юнин, П. А. Юрасов, Д. В.
Краткая информация
Маркер записи n
Контрольный номер RU/IS/BASE/690558045
Дата корректировки 14:02:36 18 ноября 2021 г.
10.21883/FTP.2018.12.46754.33
Служба первич. каталог. Шавель
Код языка каталог. rus
Правила каталог. PSBO
Код языка издания rus
Индекс УДК 621.315.592
Байдусь, Н. В.
Применение компенсирующих слоев GaAsP для роста лазерных гетероструктур с квантовыми ямами InGaAs/GaAs, излучающих на длинах волн больше 1100 нм, на искусственных подложках Ge/Si
Электронный ресурс
Use of strain-compensating GaAsP layers for growth of InGaAs/GaAs quantum well laser heterostructures emitting at wavelengths above 1100 nm, on the artificial Ge/Si substrates
Иллюстрации/ тип воспроизводства ил.
Библиография Библиогр.: 9 назв.
Аннотация Методом газофазной эпитаксии из металлоорганических соединений на подложках GaAs и искусственных подложках Ge/Si на основе Si(001) с эпитаксиальным метаморфным слоем Ge выращены лазерные структуры с напряженными квантовыми ямами InGaAs/GaAs. Для подавления релаксации упругих напряжений при росте квантовых ям InGaAs с высокой долей In применялись компенсирующие слои GaAsP. Сопоставлены структурные и излучательные свойства образцов, выращенных на различных типах подложек. На структурах, выращенных на подложках GaAs, получено стимулированное излучение на длинах волн до 1.24 мкм при температуре 300 K, выращенных на подложках Ge/Si - на длинах волн до 1.1 мкм при температуре 77 K.
Служебное примечание Алёшкин, В. Я.
Ключевые слова лазерные гетероструктуры
квантовые ямы
подложки Ge/Si
подложки GaAs
арсенид индия-галлия
арсенид галлия
германий
кремний
стимулированное излучение
Алешкин, В. Я.
Дубинов, А. А.
Красильник, З. Ф.
Кудрявцев, К. Е.
Некоркин, С. М.
Новиков, А. В.
Рыков, А. В.
Реунов, Д. Г.
Шалеев, М. В.
Юнин, П. А.
Юрасов, Д. В.
Название источника Физика и техника полупроводников
Место и дата издания 2018
Прочая информация Т. 52, вып. 12. - С. 1443-1446
Имя макрообъекта Байдусь_применение
Тип документа b