Поиск

Влияние легирования слоев брэгговских отражателей на электрические свойства InGaAs/GaAs метаморфных фотопреобразователей

Авторы: Емельянов, В. М. Калюжный, Н. А. Минтаиров, С. А. Нахимович, М. В. Салий, Р. А. Шварц, М. З.
Краткая информация
Маркер записи n
Контрольный номер RU/IS/BASE/675858914
Дата корректировки 10:41:54 1 июня 2021 г.
10.21883/FTP.2020.04.49148.9321
Служба первич. каталог. Шавель
Код языка каталог. rus
Правила каталог. PSBO
Код языка издания rus
Индекс УДК 621.315.592
Емельянов, В. М.
Влияние легирования слоев брэгговских отражателей на электрические свойства InGaAs/GaAs метаморфных фотопреобразователей
Электронный ресурс
Effects of Bragg reflector layers’ doping in the electrical characteristics of InGaAs/GaAs metamorphic photovoltaic converters
Иллюстрации/ тип воспроизводства ил., табл.
Библиография Библиогр.: 27 назв.
Аннотация Исследованы вольт-амперные характеристики InxGa[1-x]As/GaAs метаморфных фотопреобразователей со встроенными n-InGaAs/InAlAs брэгговскими отражателями с содержанием индия (In) x = 0.025-0.24. Проведены измерения последовательного сопротивления гетероструктур в диапазоне от 90 до 400 K. Установлено, что резкое увеличение сопротивления легированных кремнием отражателей с ростом доли индия вызвано слабой активацией донорной примеси в слоях InAlAs-n : Si. Вследствие этого в последних образуются энергетические барьеры для основных носителей заряда высотой 0.32-0.36 эВ, которые имеют значительную ширину. Для подавления обнаруженного эффекта разработана технология легирования n-InGaAs/InAlAs брэгговских отражателей теллуром (Te), которая позволила снизить последовательное сопротивление на 5 порядков. Это позволило сохранить фактор заполнения вольт-амперной характеристики на уровне выше 80% вплоть до плотностей тока 2А/см{2}. Достигнутые при этом значения квантовой эффективности фотоответа фотопреобразователей выше 85% свидетельствуют о подавлении характерных для этого типа примеси эффектов "памяти" и сегрегации теллура.
Ключевые слова фотоэлектрические преобразователи
брэгговские отражатели
легирование
резистивные потери
гетерограница
метаморфные фотопреобразователи
полупроводниковые материалы
Калюжный, Н. А.
Минтаиров, С. А.
Нахимович, М. В.
Салий, Р. А.
Шварц, М. З.
Физика и техника полупроводников
2020
Т. 54, вып. 4. - С. 400-407
Имя макрообъекта Емельянов_влияние
Тип документа b