Поиск

Эпитаксиальные слои GaN на подложках лангасита, полученные методом МПЭ с плазменной активацией азота

Авторы: Лобанов, Д. Н. Новиков, А. В. Юнин, П. А. Скороходов, Е. В. Шалеев, М. В. Дроздов, М. Н. Хрыкин, О. И. Бузанов, О. А. Аленков, В. В. Фоломин, П. И.
Краткая информация
Маркер записи n
Контрольный номер RU/IS/BASE/675248383
Дата корректировки 9:12:25 25 мая 2021 г.
Служба первич. каталог. Шавель
Код языка каталог. rus
Правила каталог. PSBO
Код языка издания rus
Индекс УДК 621.315.592
Лобанов, Д. Н.
Эпитаксиальные слои GaN на подложках лангасита, полученные методом МПЭ с плазменной активацией азота
Электронный ресурс
Epitaxial GaN layers on the langasite substrates obtained by plasma-assisted MBE method
Иллюстрации/ тип воспроизводства ил.
Библиография Библиогр.: 13 назв.
Аннотация Представлены результаты отработки технологии эпитаксиального роста GaN на подложках из монокристаллического лангасита La[3]Ga[5]SiO[14] (0001) методом МПЭ ПА. Выполнены исследования влияния температуры осаждаемого на начальном этапе низкотемпературного слоя GaN на кристаллическое качество и морфологию всего слоя нитрида галлия. Продемонстрировано, что оптимальная температура осаждения начального (зародышевого) слоя GaN при его росте на подложках из лангасита составляет ~ 520°C. Понижение температуры роста до этого значения позволяет подавить диффузию кислорода из лангасита в растущий слой и уменьшить плотность прорастающих дислокаций в основном слое GaN при его последующем более высокотемпературном осаждении (~ 700°C). Дальнейшее понижение температуры роста зародышевого слоя приводит к резкой деградации кристаллического качества GaN/LGS слоев. В результате проведенных исследований были получены эпитаксиальные слои GaN/LGS с плотностью прорастающих дислокаций ~ 10{11} см{-2} и низкой (< 2нм) шероховатостью поверхности.
Ключевые слова эпитаксиальные слои
лангасит
плазменная активация азота
нитрид галлия
полупроводники
Новиков, А. В.
Юнин, П. А.
Скороходов, Е. В.
Шалеев, М. В.
Дроздов, М. Н.
Хрыкин, О. И.
Бузанов, О. А.
Аленков, В. В.
Фоломин, П. И.
Гриценко, А. Б.
Название источника Физика и техника полупроводников
Место и дата издания 2016
Прочая информация Т. 50, вып. 11. - С. 1532-1536
Имя макрообъекта Лобанов_эпитаксиальные
Тип документа b