Поиск

On effects of initial CF[4] + CHF[3] + O[2] mixture composition on plasma parameters and reactive-ion etching of silicon

Авторы: Efremov, A. M. Kwang-Ho Kwon Bobylev, A. V. Kaznacheeva, E. M.
Краткая информация
Маркер записи n 22 3 4500
Контрольный номер ivch25_to68_vy1_ss39_ad1
Дата корректировки 12:39:09 23 мая 2025 г.
Кодируемые данные 250227s2025||||RU|||||||||||#||||# rus0|
Системный контрольный номер RUMARS-ivch25_to68_vy1_ss39_ad1
AR-MARS
Код языка каталог. rus
Код языка издания eng
eng
Индекс УДК 544.4
Индекс ББК 24.542
Таблицы для массовых библиотек
Efremov, A. M.
Научно-исследовательский институт молекулярной электроники
070
On effects of initial CF[4] + CHF[3] + O[2] mixture composition on plasma parameters and reactive-ion etching of silicon
A. M. Efremov, A. V. Bobylev, E. M. Kaznacheeva, Kwang-Ho Kwon
О влиянии начального состава смеси CF[4] + CHF[3] + O[2] на параметры плазмы и кинетику реактивно-ионного травления кремния
rus
Иллюстрации/ тип воспроизводства 3 рис., 2 табл.
Текст
непосредственный
Библиография Библиогр.: с. 46-47 (31 назв.)
Аннотация Работа посвящена механизмам влияния соотношения CF[4]/CHF[3] в плазмообразующей смеси CF[4] + CHF[3] + O[2] на стационарный состав плазмы и кинетику травления кремния в типичных условиях реактивно-ионного процесса. В исследовании подтверждены основные свойства плазмы CF[4] + O[2] и CHF[3] + O[2]. Обнаружено, что замена CF[4] на CHF[3] при фиксированном содержании кислорода в исходном газе вызывает изменения температуры электронов и плотности плазмы.
Химия
AR-MARS
Химическая кинетика
AR-MARS
Ключевые слова параметры плазмы
свойства плазмы
реактивно-ионные процессы
содержание кислорода
газы
плотность плазмы
кинетика травления
кинетика активных частиц
механизмы травления
кремний
Bobylev, A. V.
Ивановский государственный химико-технологический университет
070
Kaznacheeva, E. M.
Ивановский государственный химико-технологический университет
070
Другие авторы Kwang-Ho Kwon
Korea University
070
ISSN 0579-2991
Название источника Известия вузов. Химия и химическая технология
Место и дата издания 2025
Прочая информация Т. 68, вып. 1. - С. 39-47
RU
64417093
20250227
RCR
RU
64417093
20250227
RU
AR-MARS
20250227
RCR
RU
AR-MARS
20250227
Тип документа b
code
year
to
vy
ss
ad
ivch
2025
68
1
39
1
421
Химия
Ефремов, А. М.
Александр Михайлович
070
Бобылев, А. В.
Александр Викторович
070
Казначеева, Е. М.
Екатерина Михайловна
070
Кванг-Хо Квон
070