Сайт библиотеки БГТУ Сайт БГТУ Электронная библиотека БГТУ
  1. Базы данных
  2. Статьи
  3. On effects of initial CF[4] + CHF[3] + O[2] mixture composition on plasma parameters and reactive-ion etching of silicon
Поиск

On effects of initial CF[4] + CHF[3] + O[2] mixture composition on plasma parameters and reactive-ion etching of silicon

Авторы: Efremov, A. M. Kwang-Ho Kwon Bobylev, A. V. Kaznacheeva, E. M.
Подробная информация
Индекс УДК 544.4
On effects of initial CF[4] + CHF[3] + O[2] mixture composition on plasma parameters and reactive-ion etching of silicon
A. M. Efremov, A. V. Bobylev, E. M. Kaznacheeva, Kwang-Ho Kwon
Аннотация Работа посвящена механизмам влияния соотношения CF[4]/CHF[3] в плазмообразующей смеси CF[4] + CHF[3] + O[2] на стационарный состав плазмы и кинетику травления кремния в типичных условиях реактивно-ионного процесса. В исследовании подтверждены основные свойства плазмы CF[4] + O[2] и CHF[3] + O[2]. Обнаружено, что замена CF[4] на CHF[3] при фиксированном содержании кислорода в исходном газе вызывает изменения температуры электронов и плотности плазмы.
Название источника Известия вузов. Химия и химическая технология
Место и дата издания 2025
Прочая информация Т. 68, вып. 1. - С. 39-47