| Маркер записи | n 22 3 4500 |
| Контрольный номер | ivch23_to66_vy6_ss37_ad1 |
| Дата корректировки | 10:13:39 1 сентября 2023 г. |
| Кодируемые данные | 230731s2023||||RU|||||||||||#||||# rus0| |
| Системный контрольный номер | RUMARS-ivch23_to66_vy6_ss37_ad1 |
| AR-MARS | |
| Служба первич. каталог. |
БУК Омская государственная областная научная библиотека им. А.С. Пушкина МАРС |
| Код языка каталог. | rus |
| Код языка издания |
eng eng |
| Индекс УДК | 544 |
| Индекс ББК | 24.5 |
| Таблицы для массовых библиотек | |
|
Efremov, A. M. Ивановский государственный химико-технологический университет 070 |
|
|
On the comparison of reactive-ion etching mechanisms for SiO[2] and Si[3]N[4] in HBr + Ar plasma A. M. Efremov, V. B. Betelin, Kwang-Ho Kwon |
|
|
О сравнении механизмов реактивно-ионного травления SiO[2] и Si[3]N[4] в плазме HBr + Ar rus |
|
| Иллюстрации/ тип воспроизводства | 2 рис. |
| Текст | |
| непосредственный | |
| Библиография | Библиогр.: с. 44-45 (24 назв.) |
| Аннотация | Исследовано влияние соотношения компонентов в смеси HBr + Ar на электрофизические параметры плазмы, стационарные концентрации активных частиц и кинетику реактивно-ионного травления SiO[2] и Si[3]N[4] в условиях индукционного ВЧ (13, 56 МГц) разряда. Совместное использование методов зондовой диагностики и моделирования плазмы показало, что увеличение доли аргона при постоянном давлении газа и вкладываемой мощности а) приводит к увеличению температуры электронов и концентраций заряженных частиц; б) сопровождается увеличением интенсивности ионной бомбардировки обрабатываемой поверхности; и в) вызывает близкое к пропорциональному снижение концентрации и плотности потока атомов брома. |
|
Химия AR-MARS Физическая химия в целом AR-MARS |
|
| Ключевые слова |
плазмы параметры активные частицы ионизация диссоциация травление кинетика |
|
Betelin, V. B. Федеральный научный центр Научно-исследовательский институт системных исследований Российской академии наук 070 |
|
| Другие авторы |
Kwang-Ho Kwon Korea University 070 |
| ISSN | 0579-2991 |
| Название источника | Известия вузов. Химия и химическая технология |
| Место и дата издания | 2023 |
| Прочая информация | Т. 66, вып. 6. - С. 37-45 |
|
RU 64417093 20230731 RCR |
|
|
RU 64417093 20230731 |
|
|
RU AR-MARS 20230731 RCR |
|
|
RU AR-MARS 20230731 |
|
| Тип документа | b |
|
code year to vy ss ad |
|
|
ivch 2023 66 6 37 1 |
|
| 421 | |
| Химия | |
|
Ефремов, А. М. Александр Михайлович 070 Бетелин, В. Б. Владимир Борисович 070 |
|
|
Кван-хо Квон 070 |
