| Маркер записи | n 22 3 4500 |
| Контрольный номер | ivch22_to65_vy4_ss30_ad1 |
| Дата корректировки | 12:17:36 23 мая 2025 г. |
| Кодируемые данные | 220606s2022||||RU|||||||||||#||||# rus0| |
| Системный контрольный номер | RUMARS-ivch22_to65_vy4_ss30_ad1 |
| AR-MARS | |
| Код языка каталог. | rus |
| Код языка издания |
eng eng |
| Индекс УДК | 544 |
| Индекс ББК | 24.5 |
| Таблицы для массовых библиотек | |
|
Efremov, A. M. Ивановский государственный химико-технологический университет 070 |
|
|
Gas-phase parameters and silicon etching kinetics in C[6]F[12]O + О[2] plasma A. M. Efremov, V. B. Betelin, Kwang-Ho Kwon |
|
|
Параметры газовой фазы и кинетика травления кремния в плазме C[6]F[12]O + O[2] rus |
|
| Иллюстрации/ тип воспроизводства | 3 рис., 1 табл. |
| Текст | |
| непосредственный | |
| Библиография | Библиогр.: с. 37-38 (26 назв.) |
| Аннотация | В работе исследованы характеристики газовой фазы и кинетика реактивно-ионного травления кремния в плазме C[6]F[12]O+O[2] с использованием смеси CF[4]+O[2] в качестве системы сравнения. Эксперименты по травлению показали: а) незначительный вклад физического распыления в общую скорость процесса; б) идентичные изменения кинетики гетерогенной химической реакции в зависимости от параметров обработки. Плазма C[6]F[12]O+O[2] характеризуется более низкими абсолютными скоростями травления (что коррелирует с различиями в потоках атомов F), а также более высокими эффективными вероятностями реакции Si + F. |
|
Химия AR-MARS Физическая химия в целом AR-MARS |
|
| Ключевые слова |
плазмы параметры активные частицы ионизация диссоциация травление кремния скорости травления |
|
Betelin, V. B. Научно-исследовательский институт системных исследований Российской академии наук, ФГУ ФНЦ 070 |
|
| Другие авторы |
Kwang-Ho Kwon Korea University 070 |
| ISSN | 0579-2991 |
| Название источника | Известия вузов. Химия и химическая технология |
| Место и дата издания | 2022 |
| Прочая информация | Т. 65, вып. 4. - С. 30-38 |
|
RU 64417093 20220606 RCR |
|
|
RU 64417093 20220606 |
|
|
RU AR-MARS 20220606 RCR |
|
|
RU AR-MARS 20220606 |
|
| Тип документа | b |
|
code year to vy ss ad |
|
|
ivch 2022 65 4 30 1 |
|
| 421 | |
| Химия | |
|
Ефремов, А. М. Александр Михайлович 070 Бетелин, В. Б. Владимир Борисович 070 |
|
|
Kwang-Ho Kwon 070 |
