| Маркер записи | n 22 3 4500 |
| Контрольный номер | ivch21_to64_vy6_ss25_ad1 |
| Дата корректировки | 11:35:05 29 июля 2021 г. |
| Кодируемые данные | 210623s2021||||RU|||||||||||#||||# rus0| |
| Системный контрольный номер | RUMARS-ivch21_to64_vy6_ss25_ad1 |
| AR-MARS | |
| Служба первич. каталог. |
БУК Омская государственная областная научная библиотека им. А.С. Пушкина МАРС |
| Код языка каталог. | rus |
| Код языка издания |
eng eng |
| Индекс УДК | 66.02 |
| Индекс ББК | 35.11 |
| Таблицы для массовых библиотек | |
|
Efremov, A. M. Ивановский государственный химико-технологический университет 070 |
|
|
Gas-phase parameters and reactive-ion etching regimes for Si and SiO[2] in binary Ar+CF[4]/C[4]F[8] mixtures A. M. Efremov, V. B. Betelin, K. A. Mednikov, Kwang-Ho Kwon |
|
|
Параметры газовой фазы и режимы реактивно-ионного травления Si и SiO[2] в бинарных смесях Ar+CF[4]/C[4]F[8] rus |
|
| Иллюстрации/ тип воспроизводства | 3 рис. |
| Текст | |
| непосредственный | |
| Библиография | Библиогр.: с. 33-34 (30 назв.) |
| Аннотация | Проведено сравнительное исследование электрофизических параметров плазмы, стационарного состава газовой фазы и закономерностей реактивно-ионного травления Si и SiO[2] в плазме бинарных смесей CF[4]+Ar и C[4]F[8]+Ar в условиях индукционного ВЧ 13, 56 МГц разряда. Показано, что исследованные смеси проявляют близкие свойства ионной компоненты плазмы и электронного газа, но характеризуются существенными отличиями в кинетике атомов и радикалов. |
|
Химическая технология AR-MARS Основные процессы и аппараты химической технологии AR-MARS |
|
| Ключевые слова |
травление полимеризация потоки атомов фтора потоки энергии ионов эффективная вероятность взаимодействия реактивно-ионное травление бинарные смеси кинетика |
|
Betelin, V. B. ФНЦ НИИСИ РАН 070 Mednikov, K. A. ФНЦ НИИСИ РАН 070 |
|
| Другие авторы |
Kwang-Ho Kwon Korea University 070 |
| ISSN | 0579-2991 |
| Название источника | Известия вузов. Химия и химическая технология |
| Место и дата издания | 2021 |
| Прочая информация | Т. 64, вып. 6. - С. 25-34 |
|
RU 64417093 20210623 RCR |
|
|
RU 64417093 20210623 |
|
|
RU AR-MARS 20210623 RCR |
|
|
RU AR-MARS 20210623 |
|
| Тип документа | b |
|
code year to vy ss ad |
|
|
ivch 2021 64 6 25 1 |
|
| 421 | |
| Химическая технология | |
|
Ефремов, А. М. Александр Михайлович 070 Бетелин, В. Б. Владимир Борисович 070 Медников, К. А. Константин Александрович 070 |
|
|
Kwang-Ho Kwon 070 |
