| Маркер записи | n 22 3 4500 |
| Контрольный номер | ivch19_to62_vy10_ss76_ad1 |
| Дата корректировки | 9:44:34 28 декабря 2019 г. |
| Кодируемые данные | 191209s2019||||RU|||||||||||#||||# rus0| |
| Системный контрольный номер | RUMARS-ivch19_to62_vy10_ss76_ad1 |
| AR-MARS | |
| Служба первич. каталог. |
БУК Омская государственная областная научная библиотека им. А.С. Пушкина МАРС |
| Код языка каталог. | rus |
| Код языка издания |
eng eng |
| Индекс УДК | 544 |
| Индекс ББК | 24.5 |
| Таблицы для массовых библиотек | |
|
Efremov, A. M. 070 z01710 |
|
|
On mechanisms of oxygen influence on gas-phase parameters and silicon reactive-ion etching kinetics in HBr+Cl[2]+O[2] plasma [Текст] A. M. Efremov [и др.] |
|
|
О механизмах влияния кислорода на параметры газовой фазы и кинетику реактивно-ионного травления кремния в плазме HBr+CI[2]+0[2] rus |
|
| Иллюстрации/ тип воспроизводства | 4 рис. |
| Библиография | Библиогр.: с. 82-83 (26 назв.) |
| Аннотация | Проведено исследование влияния соотношений компонентов HBr/O[2] и Cl[2]/O[2] в плазмообразующей смеси HBr + Cl[2] + O[2] на параметры плазмы, стационарные концентрации активных частиц и кинетику травления Si в условиях, характерных для процессов реактивно-ионного травления: давление плазмообразующего газа (p = 10 мтор), вкладываемая мощность (W = 500 Вт) и мощность смещения (Wdc = 200 Вт). |
|
Химия AR-MARS Физическая химия в целом AR-MARS |
|
| Ключевые слова |
ионизация диссоциация потоки атомов галогенов потоки атомов кислорода потоки энергии ионов скорости травления вероятность взаимодействия эффективность взаимодействия реактивно-ионное травление травление кремния |
|
Rybkin, V. V. 070 z02710 Betelin, V. B. 070 z03710 |
|
| Другие авторы |
Kwang-Ho Kwon 070 z04710 |
|
Ивановский государственный химико-технологический университет z01100 Иваново Вторичная ответственность Ивановский государственный химико-технологический университет z02700 Иваново Вторичная ответственность ФГУ ФНЦ НИИСИ РАН z03700 Москва Вторичная ответственность Korea University z04700 Корея Вторичная ответственность |
|
| ISSN | 0579-2991 |
| Название источника | Известия вузов. Химия и химическая технология |
| Место и дата издания | 2019 |
| Прочая информация | Т. 62, вып. 10. - С. 76-83 |
|
RU 64417093 20191209 RCR |
|
|
RU 64417093 20191209 |
|
|
RU AR-MARS 20191209 RCR |
|
|
RU AR-MARS 20191209 |
|
| Тип документа | b |
|
code year to vy ss ad |
|
|
ivch 2019 62 10 76 1 |
|
| 421 | |
| Химия | |
|
Ефремов, А. М. Александр Михайлович 070 z01712 Рыбкин, В. В. Владимир Владимирович 070 z02712 Бетелин, В. Б. Владимир Борисович 070 z03712 |
|
|
Kwang-Ho Kwon 070 z04712 |
