-
Concerning effects of inert carrier gas on densities of active species and ZrO[2] etching kinetics in chlorine plasma
Efremov, A. M., Kwang-Ho Kwon, Smirnov, S. A., Betelin, V. B.
Concerning effects of inert carrier gas on densities of active species and ZrO[2] etching kinetics in chlorine plasma, A. M. Efremov, S. A. Smirnov, V. B. Betelin, Kwang-Ho Kwon
5 рис.
// Известия вузов. Химия и химическая технология .-
2024 .-
Т. 67, вып. 11. - С. 40-54 .-
-
On the comparison of reactive-ion etching mechanisms for SiO[2] in Fluorine- and chlorine-containing plasmas
Efremov, A. M., Kwang-Ho Kwon, Smirnov, S. A., Betelin, V. B.
On the comparison of reactive-ion etching mechanisms for SiO[2] in Fluorine- and chlorine-containing plasmas, A. M. Efremov, S. A. Smirnov, V. B. Betelin, Kwang-Ho Kwon
3 рис.
// Известия вузов. Химия и химическая технология .-
2023 .-
Т. 66, вып. 8. - С. 54-62 .-
-
Plasma parameters and active species kinetics in Cl[2]+BCl[3]+Ar gas mixture
Efremov, A. M., Kwang-Ho Kwon, Smirnov, S. A., Betelin, V. B.
Plasma parameters and active species kinetics in Cl[2]+BCl[3]+Ar gas mixture, A. M. Efremov, S. A. Smirnov, V. B. Betelin, Kwang-Ho Kwon
3 рис.
// Известия вузов. Химия и химическая технология .-
2022 .-
Т. 65, вып. 3. - С. 14-21 .-
-
Alternating current underwater discharge parameters
Oshchenko, I. I., Smirnov, S. A.
Alternating current underwater discharge parameters, I. I. Oshchenko, S. A. Smirnov
5 рис., 2 табл.
// Известия вузов. Химия и химическая технология .-
2022 .-
Т. 65, вып. 11. - С. 6-12 .-
