| Маркер записи | n |
| Контрольный номер | RU/IS/BASE/637682354 |
| Дата корректировки | 16:02:04 17 марта 2020 г. |
| Вид содержания и средства доступа | 2-80 |
| Служба первич. каталог. |
Голубева БГТУ |
| Код языка каталог. | rus |
| Правила каталог. | PSBO |
| Код языка издания | rus |
| Индекс УДК | 539.2 |
| Полочн. индекс | 539 |
| Авторский знак | И75 |
| Палмер, Д. | |
|
Ионная имплантация в полупроводники и другие материалы Текст сборник статей пер. с англ. под ред. В. С. Вавилова |
|
| Место издания | Москва |
| Издательство | Мир |
| Дата издания оригинала | 1980 |
| Объем | 330, [1] с. |
| Иллюстрации/ тип воспроизводства | ил. |
| Серия | Новости физики твердого тела |
| N тома | вып. 10 |
| Аннотация | Рассматриваются вопросы ионной имплантации — способ введения атомов примесей в поверхностный слой пластины или эпитаксиальной плёнки путём бомбардировки его поверхности пучком ионов c высокой энергией. Широко используется при создании полупроводниковых приборов методом планарной технологии. |
|
внедрение ускоренных ионов ионная имплантация микроэлектронные устройства твердотельная электроника твердые тела ионная бомбардировка ионы высокие энергии |
|
| Другие авторы | Калбицер, С. |
|
Эйзен, Ф. Фоти, Дж. Литл, Р. Люка, Ш. Трюш, Р. Келли, Р. Поут, Дж. |
|
| Тип документа | m |
