| Индекс УДК | 539.2 |
|
Ионная имплантация в полупроводники и другие материалы Текст сборник статей пер. с англ. под ред. В. С. Вавилова |
|
| Место издания | Москва |
| Издательство | Мир |
| Дата издания оригинала | 1980 |
| Объем | 330, [1] с. |
| Аннотация | Рассматриваются вопросы ионной имплантации — способ введения атомов примесей в поверхностный слой пластины или эпитаксиальной плёнки путём бомбардировки его поверхности пучком ионов c высокой энергией. Широко используется при создании полупроводниковых приборов методом планарной технологии. |
| Другие авторы | Калбицер, С. |
