| Маркер записи | n |
| Контрольный номер | RU/IS/BASE/545822750 |
| Дата корректировки | 9:54:57 14 апреля 2018 г. |
| Вид содержания и средства доступа | 1-30 |
| Служба первич. каталог. |
Лапко БГТУ |
| Код языка каталог. | rus |
| Правила каталог. | PSBO |
| Код языка издания | rus |
| Полочн. индекс | 621.3 |
| Авторский знак | Ф81 |
|
Гук, Елена Григорьевна Е. Г. Гук |
|
| Заглавие | Фоторезисты-диффузанты в полупроводниковой технологии |
| Физич. носитель | Текст |
| Продолж. заглавия | [монография] |
| Ответственность | Академия наук СССР, Физико-технический институт им. А. Ф. Иоффе ; отв. ред. д-р хим. наук А. В. Ельцов |
| Место издания | Ленинград |
| Издательство | Наука, Ленинградское отделение |
| Дата издания оригинала | 1984 |
| Объем | 115, [2] с. |
| Иллюстрации/ тип воспроизводства | ил., табл. |
| Аннотация | В монографии впервые рассматриваются создание и применение в радиоэлектронике фоторезистов-диффузантов - полимерных материалов для производства фотолитографии и диффузии в полупроводниковом производстве. |
|
фоторезисты-диффузанты полупроводниковая технология основные группы фоторезистов азидосодержащие фоторезисты полимерные материалы радиоэлектроника фотолитография элементосодержащие фоторезисты-диффузанты |
|
|
Ельцов, Андрей Васильевич А. В. Ельцов Шуман, Валентина Борисовна В. Б. Шуман Юрре, Татьяна Андреевна Т. А. Юрре |
|
| Организация/ юрисдикция | Академия наук СССР |
| Другие уровни | Физико-технический институт им. А. Ф. Иоффе |
| Тип документа | m |
