| Заглавие | Фоторезисты-диффузанты в полупроводниковой технологии |
| Физич. носитель | Текст |
| Продолж. заглавия | [монография] |
| Ответственность | Академия наук СССР, Физико-технический институт им. А. Ф. Иоффе ; отв. ред. д-р хим. наук А. В. Ельцов |
| Место издания | Ленинград |
| Издательство | Наука, Ленинградское отделение |
| Дата издания оригинала | 1984 |
| Объем | 115, [2] с. |
| Аннотация | В монографии впервые рассматриваются создание и применение в радиоэлектронике фоторезистов-диффузантов - полимерных материалов для производства фотолитографии и диффузии в полупроводниковом производстве. |
