Поиск

Plasma composition and SiO[2] etching kinetics in CF[4]/C[4]F[8]/Ar/He mixture: effects of CF[4]/C[4]F[8] mixing ratio and bias power

Авторы: Efremov, A. M. Kwang-Ho Kwon
Краткая информация
Маркер записи n 22 3 4500
Контрольный номер ivch22_to65_vy10_ss47_ad1
Дата корректировки 13:02:13 31 октября 2022 г.
Кодируемые данные 221019s2022||||RU|||||||||||#||||# rus0|
Системный контрольный номер RUMARS-ivch22_to65_vy10_ss47_ad1
AR-MARS
Служба первич. каталог. БУК Омская государственная областная научная библиотека им. А.С. Пушкина
МАРС
Код языка каталог. rus
Код языка издания eng
eng
Индекс УДК 544.55
Индекс ББК 24.55
Таблицы для массовых библиотек
Efremov, A. M.
Ивановский государственный химико-технологический университет
070
Plasma composition and SiO[2] etching kinetics in CF[4]/C[4]F[8]/Ar/He mixture: effects of CF[4]/C[4]F[8] mixing ratio and bias power
A. M. Efremov, Kwang-Ho Kwon
Состав плазмы и кинетикa травления SiO[2] в смеси CF[4]/C[4]F[8]/Ar/He: влияние соотношения CF[4]/C[4]F[8] и мощности смещения
rus
Иллюстрации/ тип воспроизводства 2 рис.
Текст
непосредственный
Библиография Библиогр.: с. 53 (22 назв.)
Аннотация Исследованы характеристики газовой фазы и кинетика реактивно-ионного травления диоксида кремния в плазме CF[4]/C[4]F[8]/Ar/He при варьировании соотношения CF[4]/C[4]F[8] и потенциала смещения в режиме малой (0, 05 Вт/см{3}) вкладываемой мощности. Интерес к такому режиму обусловлен возможностью получения высокой анизотропии травления при малых радиационных повреждениях поверхности. Схема исследования включала диагностику плазмы с помощью зондов Ленгмюра и оптической эмиссионной спектроскопии в варианте внутренней (без использования стандартной добавки) актинометрии.
Химия
AR-MARS
Химия плазмы
AR-MARS
Ключевые слова плазмы
составы плазмы
параметры
активные частицы
диссоциация
травление
диоксиды кремния
газовые фазы
реактивно-ионное травление
кинетика объемных процессов
кинетика гетерогенных процессов
низкая плотность плазмы
Другие авторы Kwang-Ho Kwon
Korea University
070
ISSN 0579-2991
Название источника Известия вузов. Химия и химическая технология
Место и дата издания 2022
Прочая информация Т. 65, вып. 10. - С. 47-53
RU
64417093
20221019
RCR
RU
64417093
20221019
RU
AR-MARS
20221019
RCR
RU
AR-MARS
20221019
Тип документа b
code
year
to
vy
ss
ad
ivch
2022
65
10
47
1
421
Химия
Ефремов, А. М.
Александр Михайлович
070
Kwang-Ho Kwon
070