Поиск

Накопление зарядов в МОП-структурах с поликремниевым затвором при туннельной инжекции

Авторы: Александров, О. В. Золотарёв, С. И. Агеев, А. Н. Золотарев, С. И.
Краткая информация
Маркер записи n
Контрольный номер RU/IS/BASE/691069530
Дата корректировки 11:57:18 24 ноября 2021 г.
10.21883/FTP.2018.13.46877.8875
Служба первич. каталог. Шавель
Код языка каталог. rus
Правила каталог. PSBO
Код языка издания rus
Индекс УДК 621.315.592
Александров, О. В.
Накопление зарядов в МОП-структурах с поликремниевым затвором при туннельной инжекции
Электронный ресурс
Accumulation of charges in MOS-structures with polysilicon gate at tunnel injection
Иллюстрации/ тип воспроизводства ил., табл.
Библиография Библиогр.: 27 назв.
Аннотация Изучено накопление зарядов в МОП-структурах с легированным и нелегированным поликремниевым затвором с Al-контактами и без них при тунннельной инжекции электронов из затвора и из кремниевой подложки. Показано, что независимо от полярности инжекции вблизи поликремниевого затвора накапливается отрицательный заряд, а вблизи кремниевой подложки положительный. При больших зарядах инжекции вблизи кремниевой подложки также появляется отрицательный заряд. Результаты описаны с помощью численной модели, в которой учтено образование электронных ловушек при нанесении Al-контактов и генерация электронных ловушек при рекомбинации свободных электронов с захваченными на ловушки дырками.
Золотарёв, С. И.
Ключевые слова поликремниевые затворы
туннельная инжекция
МОП-структуры
кремниевые подложки
электронные ловушки
Агеев, А. Н.
Золотарев, С. И.
Физика и техника полупроводников
2018
Т. 52, вып. 13. - С. 1625-1630
Имя макрообъекта Александров_накопление
Тип документа b