Поиск

Анализ особенностей кристаллической структуры НЕМТ-гетероструктур GaN/Al[0.32]Ga[0.68]N по данным рентгеновской дифрактометрии методом Вильямсона-Холла

Авторы: Пушкарeв, С. С. Пушкарёв, С. С. Грехов, М. М. Зенченко, Н. В.
Краткая информация
Маркер записи n
Контрольный номер RU/IS/BASE/688211673
Дата корректировки 10:00:53 22 октября 2021 г.
10.21883/FTP.2018.06.45920.8661
Служба первич. каталог. Шавель
Код языка каталог. rus
Правила каталог. PSBO
Код языка издания rus
Индекс УДК 621.315.592
Пушкарeв, С. С.
Анализ особенностей кристаллической структуры НЕМТ-гетероструктур GaN/Al[0.32]Ga[0.68]N по данным рентгеновской дифрактометрии методом Вильямсона-Холла
Электронный ресурс
X-ray diffraction analysis of GaN/Al[0.32]Ga[0.68]N HEMT-nanoheterostructures by Williamson-Hall method
Иллюстрации/ тип воспроизводства ил.
Библиография Библиогр.: 10 назв.
Аннотация Показано, что аппроксимация пиков на кривых рентгеновского дифракционного отражения в режимах и w-сканирования точнее всего может быть выполнена инверсным полиномом четвeртой степени или функцией плотности вероятности при распределении Стьюдента. Эти функции хорошо описывают не только центральную, наиболее интенсивную часть экспериментального пика, но также и его малоинтенсивное расширенное основание, обусловленное диффузным рассеянием. С помощью метода Вильямсона-Холла определены средняя микродеформация и средний вертикальный размер области когерентного рассеяния D для слоeв GaN. Значение D, полученное для слоя Al[0.32]Ga[0.68]N, обусловлено, скорее всего, толщиной слоя Al[0.32]Ga[0.68]N, которая номинально составляет 11 нм.
Пушкарёв, С. С.
Ключевые слова рентгеновская дифрактометрия
метод Вильямсона-Холла
НЕМТ-гетероструктуры
кристаллическая структура
спектроскопия фотолюминесценции
аппроксимация пиков
Грехов, М. М.
Зенченко, Н. В.
Физика и техника полупроводников
2018
Т. 52, вып. 6. - С. 586-590
Имя макрообъекта Пушкарeв_анализ
Тип документа b