Поиск

Электрический пробой в чистом n- и p-Si

Авторы: Банная, В. Ф. Никитина, Е. В.
Краткая информация
Маркер записи n
Контрольный номер RU/IS/BASE/687521049
Дата корректировки 10:10:13 14 октября 2021 г.
10.21883/FTP.2018.03.45610.8536
Служба первич. каталог. Шавель
Код языка каталог. rus
Правила каталог. PSBO
Код языка издания rus
Индекс УДК 621.315.592
Банная, В. Ф.
Электрический пробой в чистом n- и p-Si
Электронный ресурс
Electrical breakdown in pure n- and p-Si
Иллюстрации/ тип воспроизводства ил., табл.
Библиография Библиогр.: 7 назв.
Аннотация Представлены результаты расчета зависимостей кинетических коэффициентов ударной ионизации и термической рекомбинации от электрического поля в чистом кремнии. По аналогии с германием рассчитаны зависимости поля электрического пробоя E[br] от степени компенсации материала K. Дано подробное обоснование правомочности такого расчета. Представлены кривые E[br](K) и проведено сравнение с экспериментальными данными в области слабых компенсаций. Выполнена привязка к экспериментальным результатам, при которой наблюдается удовлетворительное соответствие теории и эксперимента.
Ключевые слова электрические пробои
кремний
ударная ионизация
термическая рекомбинация
Никитина, Е. В.
Физика и техника полупроводников
2018
Т. 52, вып. 3. - С. 291-294
Имя макрообъекта Банная_электрический
Тип документа b