Поиск

Ионный синтез кристаллической фазы Ge в пленках SiO[x]N[y] при отжиге под высоким давлением

Авторы: Тысченко, И. Е. Кривякин, Г. К. Володин, В. А.
Краткая информация
Маркер записи n
Контрольный номер RU/IS/BASE/687453186
Дата корректировки 15:17:27 13 октября 2021 г.
10.21883/FTP.2018.02.45457.8595
Служба первич. каталог. Шавель
Код языка каталог. rus
Правила каталог. PSBO
Код языка издания rus
Индекс УДК 621.315.592
Тысченко, И. Е.
Ионный синтез кристаллической фазы Ge в пленках SiO[x]N[y] при отжиге под высоким давлением
Электронный ресурс
Ion-beam synthesis of Ge crystalline phase in SiO[x]N[y] films during high-pressure annealing
Иллюстрации/ тип воспроизводства ил.
Библиография Библиогр.: 14 назв.
Аннотация Изучено зарождение фазы кристаллического германия в пленках SiO[x]N[y], имплантированных ионами Ge[+] с энергией 55кэВ дозами 2.1 · 10{15}-1.7 · 10{16} см{-2}, после отжига при температуре T[a] = 800-1300°C при давлениях 1 бар и 1-12 кбар. Из анализа полосы комбинационного рассеяния света сделано заключение об увеличении размеров преципитатов аморфного германия под действием гидростатического сжатия при температуре 1000°C. Рассеяние на оптических фононах, локализованных в нанокристаллах германия, наблюдалось лишь после отжига образцов с максимальным содержанием имплантированных атомов при температуре 1300°C. В спектрах фотолюминесценции наблюдался пик при ~ 730 нм, природа которого связывается с проявлением квантово-размерного эффекта в нанокристаллах размером ~ 3нм.
Ключевые слова ионный синтез
германий
комбинационное рассеяние света
гидростатическое сжатие
нанокристаллы германия
оксид кремния
нитрид кремния
оксинитрид кремния
Кривякин, Г. К.
Володин, В. А.
Физика и техника полупроводников
2018
Т. 52, вып. 2. - С. 280-284
Имя макрообъекта Тысченко_ионный
Тип документа b