Поиск

Исследование сегрегации сурьмы при эпитаксиальном росте на подложках Si с различной кристаллографической ориентацией

Авторы: Юрасов, Д. В. Дроздов, М. Н. Шмагин, В. Б. Новиков, А. В.
Краткая информация
Маркер записи n
Контрольный номер RU/IS/BASE/686854329
Дата корректировки 16:58:12 6 октября 2021 г.
Служба первич. каталог. Шавель
Код языка каталог. rus
Правила каталог. PSBO
Код языка издания rus
Индекс УДК 621.315.592
Юрасов, Д. В.
Исследование сегрегации сурьмы при эпитаксиальном росте на подложках Si с различной кристаллографической ориентацией
Электронный ресурс
Antimony segregation in Si layers grown by MBE on Si wafers with different crystallographic orientations
Иллюстрации/ тип воспроизводства ил.
Библиография Библиогр.: 25 назв.
Аннотация Исследована сегрегация Sb в слоях Si, выращенных методом молекулярно-пучковой эпитаксии на подложках Si с кристаллографической ориентацией (111), (110), (115), и проведено сравнение полученных результатов для этих ориентаций с результатами для наиболее распространенной ориентации (001). Обнаружено, что качественно ход температурных зависимостей коэффициента сегрегации Sb (r) схож для всех исследованных ориентаций, в частности можно выделить два характерных температурных интервала, соответствующих режиму кинетических ограничений и термодинамически равновесному режиму сегрегации. Однако количественно данные для величины r при исследованных ориентациях заметно отличаются от таковых для (001) при одинаковых температурах. Обнаруженные на зависимостях r от температуры роста участки, где r меняется на 5 порядков в узком интервале температур, позволили адаптировать метод селективного легирования, основанный на контролируемом использовании эффекта сегрегации, предложенный авторами ранее для структур на Si(001), к структурам, выращенным на подложках Si иных ориентаций. С помощью данного метода были изготовлены селективно-легированные структуры Si : Sb/Si(111), в которых изменение концентрации Sb на порядок происходит на масштабах в несколько нанометров.
Ключевые слова сегрегация сурьмы
сурьма
кристаллографическая ориентация
молекулярно-пучковая эпитаксия
подложки Si
кремний
селективное легирование
селективно-легированные структуры
Дроздов, М. Н.
Шмагин, В. Б.
Новиков, А. В.
Физика и техника полупроводников
2017
Т. 51, вып. 12. - С. 1611-1615
Имя макрообъекта Юрасов_исследование
Тип документа b