Поиск

Генерация поверхностных электронных состояний на границе раздела кремний-сверхтонкий окисел в процессе полевого повреждения структур металл-окисел-полупроводник

Авторы: Гольдман, Е. И. Левашов, С. А. Нарышкина, В. Г. Чучева, Г. В.
Краткая информация
Маркер записи n
Контрольный номер RU/IS/BASE/683994707
Дата корректировки 14:45:45 3 сентября 2021 г.
10.21883/FTP.2017.09.44881.8512
Служба первич. каталог. Шавель
Код языка каталог. rus
Правила каталог. PSBO
Код языка издания rus
Индекс УДК 621.315.592
Гольдман, Е. И.
Генерация поверхностных электронных состояний на границе раздела кремний-сверхтонкий окисел в процессе полевого повреждения структур металл-окисел-полупроводник
Электронный ресурс
The generation of surface electronic states at the silicon-ultrathin oxide interface during a field stress of metal-oxide-semiconductor structures
Иллюстрации/ тип воспроизводства ил., табл.
Библиография Библиогр.: 13 назв.
Аннотация Проведены измерения высокочастотных вольт-фарадных характеристик структур металл-окисел-полупроводник (МОП) на n-Si-МОП подложках с толщиной окисла 39 А , подвергнутых повреждению при полевом стрессе. Показано, что воздействие на сверхтонкий изолирующий слой сильного, но допробойного, электрического поля приводит к образованию большого числа дополнительных пограничных локализованных электронных состояний с уровнем, отстоящим от дна зоны проводимости кремния на 0.14 эВ. Обнаружено, что перезарядка вновь образованных центров с ростом полевого напряжения обеспечивает накопление у границы раздела кремний-окисел избыточного заряда до 8 · 10{12} см{-2}. Время жизни, рожденных при полевом воздействии, локальных центров составляет двое суток; после этого зависимости заряда, локализованного на границе раздела полупроводник-диэлектрик, от напряжения на затворе в состояниях до стресса и после стресса практически совпадают.
Ключевые слова окислы кремния
кремний-окисел
металл-окисел-полупроводник
кремниевые структуры
туннельная вольтамперная характеристика
полевое повреждение
полупроводники
Левашов, С. А.
Нарышкина, В. Г.
Чучева, Г. В.
Название источника Физика и техника полупроводников
Место и дата издания 2017
Прочая информация Т. 51, вып. 9. - С. 1185-1188
Имя макрообъекта Гольдман_генерация
Тип документа b