Поиск

Образование дислокационных пар в гетероструктуре Ge/GeSi/Si(001)

Авторы: Болховитянов, Ю. Б. Гутаковский, А. К. Дерябин, А. И. Соколов, Л. В.
Краткая информация
Маркер записи n
Контрольный номер RU/IS/BASE/676046040
Дата корректировки 15:36:52 3 июня 2021 г.
10.21883/FTT.2019.02.47127.139
Служба первич. каталог. Войтик
Код языка каталог. rus
Правила каталог. PSBO
Код языка издания rus
Индекс УДК 539.21
Болховитянов, Ю. Б.
Образование дислокационных пар в гетероструктуре Ge/GeSi/Si(001)
Электронный ресурс
Иллюстрации/ тип воспроизводства ил.
Библиография Библиогр.: 21 назв.
Аннотация В гетероструктурах (ГС) Ge/LTGe/GeSi/Si(001) буферный слой GeSi в определенном диапазоне параметров ГС и режимов их роста остается псевдоморфным, в то время как пленка Ge полностью релаксирована за счет сетки краевых дислокаций, расположенной на границе раздела Ge/GeSi. В работе экспериментально показано, что наряду с краевыми дислокациями образуются дислокации с векторами Бюргерса типа a[0](100). Их формирование обусловлено реакцией 60°-х дислокаций, имеющих однонаправленную винтовую компоненту. При этом, если в процессе релаксации буферного слоя краевые дислокации расщеплялись с образованием дислокационного комплекса краевого типа, в котором 60°-е дислокации оставались связанными, то дислокации с векторами Бюргерса a[0](001) расщеплялись на две независимые 60°-е дислокации.
Ключевые слова гетероструктуры
пленки
структурные дефекты в пленках
дислокации
краевые дислокации
Другие авторы Гутаковский, А. К.
Дерябин, А. И.
Соколов, Л. В.
Название источника Физика твердого тела
Место и дата издания 2019
Прочая информация Т. 61, вып. 2. - С. 284-287
Имя макрообъекта Болховитянов_образование
Тип документа b