Поиск

Особенности слоев SiO[2], синтезированных на кремнии методом молекулярного наслаивания

Авторы: Барабан, А. П. Денисов, Е. А. Дмитриев, В. А. Дрозд, А. В. Дрозд, В. Е. Селиванов, А. А. Сейсян, Р. П.
Краткая информация
Маркер записи n
Контрольный номер RU/IS/BASE/675791287
Дата корректировки 15:50:48 31 мая 2021 г.
DOI 10.21883/FTP.2020.04.49153.9312
Служба первич. каталог. Шавель
Код языка каталог. rus
Правила каталог. PSBO
Код языка издания rus
Индекс УДК 621.315.592
Барабан, А. П.
Особенности слоев SiO[2], синтезированных на кремнии методом молекулярного наслаивания
Электронный ресурс
Features of SiO[2] layers synthesized on silicon by molecular layer deposition
Иллюстрации/ тип воспроизводства ил.
Библиография Библиогр.: 16 назв.
Аннотация Проведено сравнение характеристик слоев оксида кремния, полученных различными технологическими способами. Показано, что каталитический способ получения слоев окиси кремния методом молекулярного наслаивания имеет ряд преимуществ. Главными из них являются низкая температура роста, качественная граница раздела с кремниевой подложкой и высокая скорость роста пленок. Исследования методом катодолюминесценции позволили оценить структурное качество слоев оксида кремния, полученных методом молекулярного наслаивания, и подтвердили представления о его возможностях для получения качественных пленок окиси кремния для широкого практического применения.
Ключевые слова молекулярное наслаивание
низкотемпературный синтез
оксид кремния
каталитический синтез
катодолюминесценция
спектральное распределение
Денисов, Е. А.
Дмитриев, В. А.
Дрозд, А. В.
Дрозд, В. Е.
Селиванов, А. А.
Сейсян, Р. П.
Физика и техника полупроводников
2020
Т. 54, вып. 4. - С. 427-431
Имя макрообъекта Барабан_особенности
Тип документа b