Маркер записи | n |
Контрольный номер | RU/IS/BASE/674923279 |
Дата корректировки | 14:51:19 21 мая 2021 г. |
Служба первич. каталог. | Шавель |
Код языка каталог. | rus |
Правила каталог. | PSBO |
Код языка издания | rus |
Индекс УДК | 621.315.592 |
Бенеманская, Г. В. | |
Спектроскопия остовного уровня атомов углерода C1s на поверхности эпитаксиального слоя SiC/Si(111) 4° и интерфейса Cs/SiC/Si(111) 4° Электронный ресурс |
|
C1s core level spectroscopy of the epitaxial layer SiC/Si(111) 4° and the Cs/SiC/Si(111) 4° interface | |
Иллюстрации/ тип воспроизводства | ил. |
Библиография | Библиогр.: 16 назв. |
Аннотация | Впервые проведены фотоэмиссионные исследования электронной структуры наноинтерфейса Cs/нано-SiC/Si(111) 4° с использованием синхротронного излучения в диапазоне энергий фотонов 120-450 эВ. Эксперименты проведены in situ при субмонослойных Cs покрытиях на поверхности эпитаксиального слоя SiC, выращенного новым методом замещения атомов подложки на вицинальной поверхности Si(111) 4°. Исследована модификация спектров валентной зоны и остовных уровней C1s, Si 2p. Обнаружено появление индуцированных Cs поверхностных состояний с энергиями связи 1.2, 7.4 эВ и резкое изменение спектра остовного уровня C 1s с появлением двух дополнительных мод. Эволюция спектров показывает, что формирование интерфейса Cs/нано-SiC(111) 4° происходит за счет переноса заряда от адатомов Cs к поверхностным атомам на террасах и ступенях вицинальной поверхности. Обнаружено, что структура С-слоя является неординарной и характеризуется энергетически различными состояниями углерода. |
Ключевые слова | спектроскопия остовного уровня |
синхротронное излучение спектры валентной зоны остовные уровни карбид кремния эпитаксиальные слои |
|
Дементьев, П. А. Кукушкин, С. А. Лапушкин, М. Н. Осипов, А. В. Сеньковский, Б. В. |
|
Физика и техника полупроводников 2016 Т. 50, вып. 10. - С. 1348-1352 |
|
Имя макрообъекта | Бенеманская_спектроскопия |
Тип документа | b |