Поиск

Спектроскопия остовного уровня атомов углерода C1s на поверхности эпитаксиального слоя SiC/Si(111) 4° и интерфейса Cs/SiC/Si(111) 4°

Авторы: Бенеманская, Г. В. Дементьев, П. А. Кукушкин, С. А. Лапушкин, М. Н. Осипов, А. В. Сеньковский, Б. В.
Подробная информация
Индекс УДК 621.315.592
Спектроскопия остовного уровня атомов углерода C1s на поверхности эпитаксиального слоя SiC/Si(111) 4° и интерфейса Cs/SiC/Si(111) 4°
Электронный ресурс
Аннотация Впервые проведены фотоэмиссионные исследования электронной структуры наноинтерфейса Cs/нано-SiC/Si(111) 4° с использованием синхротронного излучения в диапазоне энергий фотонов 120-450 эВ. Эксперименты проведены in situ при субмонослойных Cs покрытиях на поверхности эпитаксиального слоя SiC, выращенного новым методом замещения атомов подложки на вицинальной поверхности Si(111) 4°. Исследована модификация спектров валентной зоны и остовных уровней C1s, Si 2p. Обнаружено появление индуцированных Cs поверхностных состояний с энергиями связи 1.2, 7.4 эВ и резкое изменение спектра остовного уровня C 1s с появлением двух дополнительных мод. Эволюция спектров показывает, что формирование интерфейса Cs/нано-SiC(111) 4° происходит за счет переноса заряда от адатомов Cs к поверхностным атомам на террасах и ступенях вицинальной поверхности. Обнаружено, что структура С-слоя является неординарной и характеризуется энергетически различными состояниями углерода.
Ключевые слова спектроскопия остовного уровня
Физика и техника полупроводников
2016
Т. 50, вып. 10. - С. 1348-1352
Имя макрообъекта Бенеманская_спектроскопия