Поиск

Роль эффекта накопления тепла в многоимпульсных режимах лазерной фемтосекундной структуризации кремния

Авторы: Гук, И. В. Шандыбина, Г. Д. Яковлев, Е. Б.
Краткая информация
Маркер записи n
Контрольный номер RU/IS/BASE/670688015
Дата корректировки 14:25:51 2 апреля 2021 г.
Служба первич. каталог. Шавель
Код языка каталог. rus
Правила каталог. PSBO
Код языка издания rus
Индекс УДК 621.315.592
Автор Гук, И. В.
Роль эффекта накопления тепла в многоимпульсных режимах лазерной фемтосекундной структуризации кремния
Электронный ресурс
The role of heat accumulation effect in the multipulse modes of femtosecond laser silicon microstructuring
Иллюстрации/ тип воспроизводства ил., табл.
Библиография Библиогр.: 22 назв.
Аннотация Представлены к обсуждению результаты количественной оценки эффекта накопления тепла при фемтосекундной лазерной структуризации поверхности кремния. В расчетах применен численно-аналитический метод, в рамках которого динамика электронных процессов и нагрев решетки моделируются численным методом, а стадия остывания описывается на основе аналитического решения. Исследовано влияние многоимпульсного облучения на изменение температуры поверхности: в электронной подсистеме - зависимости коэффициента поглощения от концентрации возбужденных носителей и зависимости поглощательной способности от температуры электронного газа; в решеточной подсистеме - изменение от импульса к импульсу поглощательной способности. Показано, что в низкочастотном режиме следования импульсов, характерном для фемтосекундной микроструктуризации кремния, эффект накопления тепла определяется не остаточной температурой поверхности к приходу следующего импульса, что соответствует традиционным представлениям, а ростом от импульса к импульсу максимального значения температуры, с которой начинается остывание. Накопление остаточной температуры поверхности может сказаться на процессе микроструктурирования при облучении вблизи порога испарения либо при увеличении частоты следования импульсов.
Ключевые слова лазерная фемтосекундная структуризация
кремний
фемтосекундная микроструктуризация
наноструктуризация поверхности
эффект накопления тепла
металлы
полупроводники
Другие авторы Шандыбина, Г. Д.
Яковлев, Е. Б.
Название источника Физика и техника полупроводников
Место и дата издания 2016
Прочая информация Т. 50, вып. 5. - С. 706-710
Имя макрообъекта Гук_роль
Тип документа b