Влияние температуры формирования на морфологию por-Si, получаемого методом Pd-стимулированного химического травления
Силаков, Г. О., Воловликова, О. В., Гаврилов, С. А., Железнякова, А. В., Дудин, А. А.
Влияние температуры формирования на морфологию por-Si, получаемого методом Pd-стимулированного химического травления, [Электронный ресурс]
ил., табл.
Физика и техника полупроводников, 2020, Т. 54, вып. 8. - С. 743-747
Силаков_влияние