| Индекс УДК | 544.6 |
|
Получение гидрофобного пористого кремния с помощью металл-стимулированного травления в присутствии Pd-катализатора О. В. Воловликова, С. А. Гаврилов, Г. О. Силаков [и др.] |
|
| Аннотация | Изучен процесс формирования слоев пористого кремния металл-стимулированным травлением монокристаллического Si с удельным сопротивлением ро = 0. 01 Ом см, покрытого тонкой пленкой Pd толщиной до 100 нм, в растворе HF/H[2]O[2]/Н[2]О. Проведено исследование por-Si методом растровой электронной микроскопии, гравиметрического анализа. Установлены зависимости скорости растворения кремния от концентрации HF в растворе при наличии и отсутствии пленки Pd. Проведено исследование анодного тока, способствующего растворению Si, помещенного в растворы с разной концентрацией HF. Методом лежачей капли было показано, что por-Si, сформированный Pd-стимулированным травлением, обладает супер-гидрофобными свойствами. Краевой угол смачивания por-Si достигает 172°. Рассчитаны значения свободной поверхностной энергии пористых слоев, а также величины поверхностного натяжения воды на por-Si для возможного применения модифицированной поверхности в робототехнике. |
| Название источника | Электрохимия |
| Место и дата издания | 2019 |
| Прочая информация | Т. 55, № 12. - С. 1452-1462 |
