-
Моделирование процессов вакуумной микролитографии как путь снижения затрат при разработке новых технологий
Обухов, В. Е.
Моделирование процессов вакуумной микролитографии как путь снижения затрат при разработке новых технологий, [Текст]
Гродно :
ГрГУ им. Я. Купалы ,
2010 .-
Энерго- и материалосберегающие экологически чистые технологии, Гродно : ГрГУ им. Я. Купалы, 2010, С. 23-30, RU/IS/BASE/361474036
-
Структура тонкопленочных наноматериалов, применяемых в технологиях микроэлектроники
Маркевич, М. И., Чапланов, А. М., Обухов, В. Е., Зеленин, В. А.
Структура тонкопленочных наноматериалов, применяемых в технологиях микроэлектроники, [Текст]
Минск :
ФТИ НАН Беларуси ,
2021 .-
Современные методы и технологии создания и обработки материалов, Минск : ФТИ НАН Беларуси, 2021, Кн. 1. - С. 188-207, RU/IS/BASE/740657161
-
Спектроскопия диэлектрических наноструктур на оксидах алюминия для импедансной наноэлектроники
Обухов, В. Е., Абрамов, И. И., Крылова, Г. В., Липневич, И. В., Ореховская, Т. И., Белов, М. А., Голубева, Е. Н., Ширяева, А. Д.
Спектроскопия диэлектрических наноструктур на оксидах алюминия для импедансной наноэлектроники, [Текст]
Минск :
ФТИ НАН Беларуси ,
2012 .-
ил.
Современные методы и технологии создания и обработки материалов, Минск : ФТИ НАН Беларуси, 2012, Кн. 1. - С. 224-233, RU/IS/BASE/605183427, 978-985-6441-29-8 (кн. 1)
-
CVD метод формирования DLC пленок и покрытий различного назначения
Обухов, В. Е., Тявловская, Е. А.
CVD метод формирования DLC пленок и покрытий различного назначения, [Текст]
Гродно :
ГрГУ им. Я. Купалы ,
2013 .-
