Поиск

Низкотемпературные омические контакты на основе Ta/Al к гетероэпитаксиальным структурам AlGaN/GaN на кремниевых подложках

Авторы: Ерофеев, Е. В. Федин, И. В. Федина, В. В. Фазлеев, А. П.
Краткая информация
Маркер записи n
Контрольный номер RU/IS/BASE/695484046
Дата корректировки 14:13:24 14 января 2022 г.
10.21883/FTP.2019.02.47108.8870
Служба первич. каталог. Шавель
Код языка каталог. rus
Правила каталог. PSBO
Код языка издания rus
Индекс УДК 621.315.592
Ерофеев, Е. В.
Низкотемпературные омические контакты на основе Ta/Al к гетероэпитаксиальным структурам AlGaN/GaN на кремниевых подложках
Электронный ресурс
Иллюстрации/ тип воспроизводства ил.
Библиография Библиогр.: 9 назв.
Аннотация Исследованы закономерности формирования низкотемпературного омического контакта на основе Ta/Al к гетероэпитаксиальным структурам Al[0.25]Ga[0.75]N/GaN на кремниевых подложках. Получены омические контакты на основе композиции Ta/Al/Ti (10/300/20 нм), характеризующиеся низким значением приведенного контактного сопротивления (0.4Ом · мм), а также гладкой морфологией поверхности контактной площадки и ее края после термической обработки при T = 550°C в течение t = 60 с в среде азота.
Ключевые слова низкотемпературные омические контакты
гетероэпитаксиальные структуры
кремниевые подложки
омические контакты
Федин, И. В.
Федина, В. В.
Фазлеев, А. П.
Физика и техника полупроводников
2019
Т. 53, вып. 2. - С. 249-252
Имя макрообъекта Ерофеев_низкотемпературные
Тип документа b