Поиск

Имплантация ионов кремния в сапфир: малые дозы

Авторы: Белова, Н. Е. Шемардов, С. Г. Фанченко, С. С. Головкова, Е. А. Кондратьев, О. А.
Краткая информация
Маркер записи n
Контрольный номер RU/IS/BASE/676120615
Дата корректировки 11:21:26 4 июня 2021 г.
Стандартный номер 10.21883/FTP.2020.08.49648.9405
Служба первич. каталог. Шавель
Код языка каталог. rus
Правила каталог. PSBO
Код языка издания rus
Индекс УДК 621.315.592
Белова, Н. Е.
Имплантация ионов кремния в сапфир: малые дозы
Электронный ресурс
Implantation of silicon ions in sapphire: low doses
Иллюстрации/ тип воспроизводства цв. ил.
Библиография Библиогр.: 12 назв.
Аннотация В результате ионной имплантации ионов кремния в сапфир и последующего высокотемпературного отжига в приповерхностной области сапфира наблюдаются преципитаты кремния и алюмосиликатов. Рентгеновские измерения методом сканирования обратного пространства показали наличие напряжения сжатия с деформацией -0.12% в нормальном направлении и напряжения растяжения с деформацией 0.2% в R-плоскости в этой области, что уменьшает несоответствие параметра решетки по отношению к кремнию (100) и может привести к повышению кристаллического качества эпитаксиальных пленок кремния, выращенных на таких модифицированных сапфировых подложках.
Ключевые слова ионная имплантация
сапфир
наночастицы
преципитаты
рентгеновская дифрактометрия
рефлектометрия
ионы кремния
кремний
имплантация ионов кремния
Шемардов, С. Г.
Фанченко, С. С.
Головкова, Е. А.
Кондратьев, О. А.
Физика и техника полупроводников
2020
Т. 54, вып. 8. - С. 766-770
Имя макрообъекта Белова_имплантация
Тип документа b