| Маркер записи | n 22 7 4500 |
| Контрольный номер | RU/IS/BASE/453479695 |
| Дата корректировки | 12:34:31 4 апреля 2018 г. |
| 539.234 | |
|
5828н.о. 5828н.о. |
|
|
001 2 38-05 |
|
|
Параметры процесса ионно-ассистируемого осаждения металлооксидных полупроводниковых пленок сложного состава ряда элементов и управление свойствами пленок Текст отчет о НИР (промежуточ.) БГТУ ; руководитель Н. Я. Шишкин - ГР20012945 |
|
|
Минск 2004 |
|
| 32 с | |
|
газочувствительность иооно-ассистируемое осаждение магнетронное напыление окисление оксид ванадия оксид вольфрама селективность тонкая пленка электрофизические свойства |
|
| 269 |
