| Индекс УДК | 537.876.23+543.42:621.373 |
| Автор | Хорошко, Л. С. |
|
Маскирующие золь-гель покрытия для фотолитографии микронного разрешения Текст |
|
| Место издания | Минск |
| Издательство | ФТИ НАН Беларуси |
| Дата издания оригинала | 2015 |
| Ключевые слова | золь-гель покрытия |
| Другие авторы | Ореховская, Т. И. |
|
Современные методы и технологии создания и обработки материалов Минск : ФТИ НАН Беларуси, 2015 Кн. 1. - С. 208-212 RU/IS/BASE/605186298 978-985-6441-44-1 (кн. 1) |
