| Индекс УДК | 661.2/.6 |
|
Низкотемпературное плазмохимическое осаждение при атмосферном давлении пленок диоксида кремния из тетраэтоксисилана А. С. Биль, С. Е. Александров |
|
| Аннотация | Тонкие пленки были получены в системе тетраэтоксисилан-гелий на кремниевых пластинах в диэлектрическом барьерном разряде атмосферного давления при низких температурах в интервале 50-210°С. Охарактеризованы покрытия, полученные при различных условиях процесса: температуре подложки и поглощенной в плазме мощности. Установлено, что повышение температуры подложки приводит к росту скорости осаждения пленок, уменьшению их пористости, увеличению плотности и уменьшению содержания в них связей СН в группировках CH[2] и CH[3]. Увеличение мощности, поглощаемой в плазме, приводит к формированию пленок с низкой плотностью и неудовлетворительными диэлектрическими свойствами. |
| Название источника | Журнал прикладной химии |
| Место и дата издания | 2022 |
| Прочая информация | Т. 95, вып. 4. - С. 483-489 |
