| Маркер записи | n 22 3 4500 |
| Контрольный номер | phcs22_to48_no6_ss753_ad1 |
| Дата корректировки | 15:33:00 30 ноября 2022 г. |
| Кодируемые данные | 221130s2022||||RU|||||||||||#||||# rus0| |
| Системный контрольный номер | RUMARS-phcs22_to48_no6_ss753_ad1 |
| AR-MARS | |
| Служба первич. каталог. |
БГТУ МАРС |
| Код языка каталог. | rus |
| Код языка издания |
rus rus |
| Индекс УДК | 666.112.2 |
| Индекс ББК | 35.43 |
| Таблицы для массовых библиотек | |
|
Каасик, В. П. Санкт-Петербургский академический университет РАН им. Ж. И. Алферова; Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого 070 |
|
|
Формирование глубокого поверхностного рельефа в фоточувствительных силикатных стеклах В. П. Каасик, Е. С. Бабич, В. В. Журихина [и др.] |
|
| Текст | |
| непосредственный | |
| Библиография | Библиогр.: с. 756-757 (13 назв. ) |
| Аннотация | В работе представлен подход к получению глубокого, до нескольких десятков микрон, поверхностного рельефа в фоточувствительных силикатных стеклах. Подход основан на локальном изменении стойкости стекол к химическому травлению за счет их кристаллизации. Под действием лазерного луча в фоточувствительных стеклах формируется область, в которой после термообработки образуются зародыши кристаллической фазы и происходит локальная кристаллизация. При последующем травлении кристаллические области травятся быстрее, что и обеспечивает поверхностный рельеф. При этом рисунок рельефа задается лазерным лучом, что позволяет избежать “мокрой” литографии. Экспериментально продемонстрировано формирование канавок глубиной до 50 микрон в фоточувствительных силикатных стеклах. |
| Источник рубрики |
ООО "Авеста-Проект" AR-MARS Авеста-Проект, ООО AR-MARS ООО Авеста-Проект AR-MARS |
|
Химическая технология AR-MARS Стекло и стеклоизделия AR-MARS |
|
| Ключевые слова |
ионы церия кристаллизация стекла лазерное излучение локальная кристаллизация модификация стекла поверхностный рельеф силикатные стекла стекла силикатные стекла фоточувствительные термообработка стекла фотоситаллизация стекла фоточувствительные стекла химическое травление |
|
Бабич, Е. С. Санкт-Петербургский академический университет РАН им. Ж. И. Алферова; Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого 070 Журихина, В. В. Санкт-Петербургский академический университет РАН им. Ж. И. Алферова; Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого 070 Липовский, А. А. Санкт-Петербургский академический университет РАН им. Ж. И. Алферова; Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого 070 Таганцев, Д. К. Санкт-Петербургский академический университет РАН им. Ж. И. Алферова; Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого 070 |
|
| ISSN | 0132-6651 |
| Название источника | Физика и химия стекла |
| Место и дата издания | 2022 |
| Прочая информация | Т. 48, № 6. - С. 753-757 |
|
RU 22013539 20221130 RCR |
|
|
RU 22013539 20221130 |
|
|
RU AR-MARS 20221130 RCR |
|
|
RU AR-MARS 20221130 |
|
| Тип документа | b |
|
code year to no ss ad |
|
|
phcs 2022 48 6 753 1 |
|
| 14889 |
