| Индекс УДК | 666.112.2 |
|
Формирование глубокого поверхностного рельефа в фоточувствительных силикатных стеклах В. П. Каасик, Е. С. Бабич, В. В. Журихина [и др.] |
|
| Аннотация | В работе представлен подход к получению глубокого, до нескольких десятков микрон, поверхностного рельефа в фоточувствительных силикатных стеклах. Подход основан на локальном изменении стойкости стекол к химическому травлению за счет их кристаллизации. Под действием лазерного луча в фоточувствительных стеклах формируется область, в которой после термообработки образуются зародыши кристаллической фазы и происходит локальная кристаллизация. При последующем травлении кристаллические области травятся быстрее, что и обеспечивает поверхностный рельеф. При этом рисунок рельефа задается лазерным лучом, что позволяет избежать “мокрой” литографии. Экспериментально продемонстрировано формирование канавок глубиной до 50 микрон в фоточувствительных силикатных стеклах. |
| Название источника | Физика и химия стекла |
| Место и дата издания | 2022 |
| Прочая информация | Т. 48, № 6. - С. 753-757 |
