| Маркер записи | n 22 3 4500 |
| Контрольный номер | zhps22_to89_no3_ss410_ad1 |
| Дата корректировки | 13:26:54 31 октября 2022 г. |
| Кодируемые данные | 221010s2022||||RU|||||||||||#||||# rus0| |
| Системный контрольный номер | RUMARS-zhps22_to89_no3_ss410_ad1 |
| AR-MARS | |
| Служба первич. каталог. |
Научная библиотека им. М. М. Бахтина Мордовского госуниверситета им. Н. П. Огарева МАРС |
| Код языка каталог. | rus |
| Код языка издания |
rus rus |
| Индекс УДК | 535.33 |
| Индекс ББК | 22.344 |
| Таблицы для массовых библиотек | |
|
Филин, С. А. 070 |
|
|
Контроль чистоты поверхности оптических элементов эллипсометрическим методом С. А. Филин, В. Е. Рогалин, И. А. Каплунов |
|
| Текст | |
| непосредственный | |
| Библиография | Библиогр.: с. 418 (49 назв. ) |
| Аннотация | Проанализирована возможность контроля химической чистоты поверхности оптических элементов эллипсометрическим методом. Приведено обоснование возможности измерения параметров загрязняющих пленок на оптической поверхности элементов эллипсометрическим методом. Показано упрощение процесса определения толщины загрязняющей пленки при расширении возможности ее измерения на оптическом элементе из разных материалов. Выполнены эллипсометрические исследования свежеполированных и побывавших в эксплуатации металлических зеркал из меди и сплава меди (циркониевой бронзы), алюминия и его сплавов АМГ-6, АЛ-9, АЛ-24. Проведены исследования на элементах из оптических стекол К-8 и К-108 (ГОСТ 3514-94) — наиболее типичных материалов, используемых для изготовления оптических деталей для лазерной техники видимого и ближнего ИК-диапазона, из монокристаллов NaCl, BaF[2] и сапфира (Al[2]O[3]) ; измерены параметры загрязняющих пленок на поверхности данных элементов. Установлено, что метод эллипсометрии целесообразно использовать при входном (перед проведением физико-химической очистки) и выходном (после очистки) контроле оптического элемента для оценки загрязненности оптической поверхности, а также для количественного анализа концентрации загрязнений на оптической поверхности элементов при отработке технологии их физико-химической очистки. |
|
Физика AR-MARS Спектроскопия AR-MARS |
|
| Ключевые слова |
загрязненности оптической поверхности количественный анализ контроль химической чистоты поверхности оптических элементов оптические поверхности физико-химическая очистка чистота поверхности оптических элементов эллипсометрические исследования эллипсометрия |
|
Рогалин, В. Е. 070 Каплунов, И. А. 070 |
|
| ISSN | 0514-7506 |
| Название источника | Журнал прикладной спектроскопии |
| Место и дата издания | 2022 |
| Прочая информация | Т. 89, № 3. - С. 410-418 |
|
RU 43013090 20221010 RCR |
|
|
RU 43013090 20221010 |
|
|
RU AR-MARS 20221010 RCR |
|
|
RU AR-MARS 20221010 |
|
| Тип документа | b |
|
code year to no ss ad |
|
|
zhps 2022 89 3 410 1 |
|
| 718 |
