| Индекс УДК | 535.33 |
|
Контроль чистоты поверхности оптических элементов эллипсометрическим методом С. А. Филин, В. Е. Рогалин, И. А. Каплунов |
|
| Аннотация | Проанализирована возможность контроля химической чистоты поверхности оптических элементов эллипсометрическим методом. Приведено обоснование возможности измерения параметров загрязняющих пленок на оптической поверхности элементов эллипсометрическим методом. Показано упрощение процесса определения толщины загрязняющей пленки при расширении возможности ее измерения на оптическом элементе из разных материалов. Выполнены эллипсометрические исследования свежеполированных и побывавших в эксплуатации металлических зеркал из меди и сплава меди (циркониевой бронзы), алюминия и его сплавов АМГ-6, АЛ-9, АЛ-24. Проведены исследования на элементах из оптических стекол К-8 и К-108 (ГОСТ 3514-94) — наиболее типичных материалов, используемых для изготовления оптических деталей для лазерной техники видимого и ближнего ИК-диапазона, из монокристаллов NaCl, BaF[2] и сапфира (Al[2]O[3]) ; измерены параметры загрязняющих пленок на поверхности данных элементов. Установлено, что метод эллипсометрии целесообразно использовать при входном (перед проведением физико-химической очистки) и выходном (после очистки) контроле оптического элемента для оценки загрязненности оптической поверхности, а также для количественного анализа концентрации загрязнений на оптической поверхности элементов при отработке технологии их физико-химической очистки. |
| Название источника | Журнал прикладной спектроскопии |
| Место и дата издания | 2022 |
| Прочая информация | Т. 89, № 3. - С. 410-418 |
