Индекс УДК | 621.315.592 |
Фотоэлектрические свойства слоев GaN, выращенных методом молекулярно-лучевой эпитаксии с плазменной активацией на подложках Si(111) и эпитаксиальных слоях SiC на Si(111) Электронный ресурс |
|
Ключевые слова | нитрид галлия |
Физика и техника полупроводников 2019 Т. 53, вып. 2. - С. 190-198 |
|
Имя макрообъекта | Кукушкин_фотоэлектрические |