| Маркер записи | n |
| Контрольный номер | RU/IS/BASE/695484588 |
| Дата корректировки | 14:18:55 14 января 2022 г. |
| 10.21883/FTP.2019.02.47111.8933 | |
| Служба первич. каталог. | Шавель |
| Код языка каталог. | rus |
| Правила каталог. | PSBO |
| Код языка издания | rus |
| Индекс УДК | 621.315.592 |
| Зайцев, С. В. | |
| Заглавие | Влияние температуры фотонного отжига на структурные и оптические свойства пленок ZnO, синтезированных методом дуального магнетронного распыления |
| Физич. носитель | Электронный ресурс |
| The influence of photon annealing temperature on structural and optical properties of ZnO films synthesized by the dual magnetron sputtering method | |
| Иллюстрации/ тип воспроизводства | ил. |
| Библиография | Библиогр.: 25 назв. |
| Аннотация | Пленки ZnO толщиной 1.4 мкм осаждали на стеклянные подложки методом дуального магнетронного распыления мишеней Zn в газовой среде аргона и кислорода. Проведены исследования зависимости структурных и оптических характеристик пленок ZnO от температуры фотонного отжига после осаждения. Установлено что, повышение температуры отжига приводит к повышению степени кристалличности пленок. Электронная микроскопия показала, что осажденное покрытие ZnO имеет столбчатую структуру, причем отжиг увеличивает плотность микроструктуры и размер кристаллита. Обнаружено, что при температуре отжига 450-650°C коэффициент оптического пропускания увеличился до значения > 90% в спектральной области 400-1100 нм. Экспериментальные результаты показывают, что температура фотонного отжига в вакууме оказывает наибольшее влияние на конечные свойства покрытий ZnO. |
| Ключевые слова | фотонный отжиг |
|
пленки ZnO оксид цинка дуальное магнетронное распыление осаждение пленок |
|
|
Ващилин, В. С. Колесник, В. В. Лимаренко, М. В. Прохоренков, Д. С. Евтушенко, Е. И. |
|
| Название источника | Физика и техника полупроводников |
| Место и дата издания | 2019 |
| Прочая информация | Т. 53, вып. 2. - С. 267-272 |
| Имя макрообъекта | Зайцев_влияние |
| Тип документа | b |
