| Индекс УДК | 621.315.592 |
| Заглавие | Влияние температуры фотонного отжига на структурные и оптические свойства пленок ZnO, синтезированных методом дуального магнетронного распыления |
| Физич. носитель | Электронный ресурс |
| Аннотация | Пленки ZnO толщиной 1.4 мкм осаждали на стеклянные подложки методом дуального магнетронного распыления мишеней Zn в газовой среде аргона и кислорода. Проведены исследования зависимости структурных и оптических характеристик пленок ZnO от температуры фотонного отжига после осаждения. Установлено что, повышение температуры отжига приводит к повышению степени кристалличности пленок. Электронная микроскопия показала, что осажденное покрытие ZnO имеет столбчатую структуру, причем отжиг увеличивает плотность микроструктуры и размер кристаллита. Обнаружено, что при температуре отжига 450-650°C коэффициент оптического пропускания увеличился до значения > 90% в спектральной области 400-1100 нм. Экспериментальные результаты показывают, что температура фотонного отжига в вакууме оказывает наибольшее влияние на конечные свойства покрытий ZnO. |
| Ключевые слова | фотонный отжиг |
| Название источника | Физика и техника полупроводников |
| Место и дата издания | 2019 |
| Прочая информация | Т. 53, вып. 2. - С. 267-272 |
| Имя макрообъекта | Зайцев_влияние |
