Поиск

Влияние электрического режима и гамма-облучения на образование поверхностных дефектов на границе раздела Si-SiO[2] в МОП-транзисторе

Авторы: Куликов, Н. А. Попов, В. Д.
Краткая информация
Маркер записи n
Контрольный номер RU/IS/BASE/694105623
Дата корректировки 10:24:35 30 декабря 2021 г.
10.21883/FTP.2019.01.46998.8900
Служба первич. каталог. Шавель
Код языка каталог. rus
Правила каталог. PSBO
Код языка издания rus
Индекс УДК 621.315.592
Куликов, Н. А.
Влияние электрического режима и гамма-облучения на образование поверхностных дефектов на границе раздела Si-SiO[2] в МОП-транзисторе
Электронный ресурс
Иллюстрации/ тип воспроизводства ил.
Библиография Библиогр.: 9 назв.
Аннотация Приводятся результаты экспериментального исследования процесса образования поверхностных дефектов при воздействии гамма-излучения с мощностью дозы P = 0.1 рад(Si)/с на МОП-транзисторы с n-каналом в пассивном и активном режимах. Наблюдались два этапа поверхностного дефектообразования. Предлагается качественная модель, объясняющая влияние напряжения на стоке транзистора на процесс дефектообразования.
Ключевые слова гамма-облучение
МОП-транзисторы
тонкие оксидные пленки
кремний
оксид кремния
радиационные эффекты
плотность поверхностных дефектов
поверхностные дефекты
Попов, В. Д.
Физика и техника полупроводников
2019
Т. 53, вып. 1. - С. 115-118
Имя макрообъекта Куликов_влияние
Тип документа b