Поиск

Определение параметров структур металл-диэлектрик-полупроводник со сверхтонким изолирующим слоем из высокочастотных вольт-фарадных характеристик

Авторы: Гольдман, Е. И. Кухарская, Н. Ф. Левашов, С. А. Чучева, Г. В.
Краткая информация
Маркер записи n
Контрольный номер RU/IS/BASE/694100174
Дата корректировки 13:50:16 29 декабря 2021 г.
10.21883/FTP.2019.01.46985.8802
Служба первич. каталог. Шавель
Код языка каталог. rus
Правила каталог. PSBO
Код языка издания rus
Индекс УДК 621.315.592
Гольдман, Е. И.
Определение параметров структур металл-диэлектрик-полупроводник со сверхтонким изолирующим слоем из высокочастотных вольт-фарадных характеристик
Электронный ресурс
Determination of parameters of metal-dielectric-semiconductor structures with a ultrathin insulating layer from high-frequency capacitance-voltage measurements
Иллюстрации/ тип воспроизводства ил.
Библиография Библиогр.: 10 назв.
Аннотация Предложена простая численная методика обработки данных высокочастотных вольт-фарадных характеристик структур металл-диэлектрик-полупроводник. Подход основан на анализе экспериментальных характеристик вблизи состояния плоских зон, где перезарядка поверхностных локализованных электронных состояний малосущественна по сравнению с изменением приграничного заряженного слоя в полупроводнике. Развитый аппарат позволяет: во-первых, находить необходимые параметры полупроводника и изолирующего слоя; во-вторых, получать в диапазоне от плоских зон до глубокого обеднения экспериментальные полевые зависимости изгиба зон в полупроводнике и суммарной концентрации встроенного заряда, заряда пограничных состояний и неосновных носителей заряда на границе раздела полупроводник-диэлектрик. Методика хорошо применима к структурам со сверхтонким изолирующим слоем. На образцах металл-окисел-полупроводник на основе n-Si с толщиной окисла 39А проведена экспериментальная апробация предложенного подхода. Точность полученных результатов составила 2-3%.
Ключевые слова вольт-фарадные характеристики
металлы
диэлектрики
полупроводники
кремниевые подложки
Кухарская, Н. Ф.
Левашов, С. А.
Чучева, Г. В.
Физика и техника полупроводников
2019
Т. 53, вып. 1. - С. 46-49
Имя макрообъекта Гольдман_определение
Тип документа b