Поиск

Исследование анизотропии структурных свойств слоев (0001)GaN, выращенных методом МОГФЭ на a-срезе сапфира (1120)

Авторы: Юнин, П. А. Дроздов, Ю. Н. Хрыкин, О. И. Григорьев, В. А.
Подробная информация
Индекс УДК 621.315.592
Исследование анизотропии структурных свойств слоев (0001)GaN, выращенных методом МОГФЭ на a-срезе сапфира (1120)
Электронный ресурс
Аннотация Методом рентгеновской дифрактометрии исследованы структурные свойства гетероэпитаксиальных слоев (0001)GaN, выращенных методом МОГФЭ на подложках a-среза (1120) сапфира. Обнаружена анизотропия ширины кривых качания симметричного (0004) и асимметричных {1124} и {1015} отражений нитрида галлия при вращении образца в своей плоскости. Сравнение анизотропии ширины кривых качания для слоев (0001)GaN/(1120)Al[2]O[3] с двумя различными вариантами ориентационных соотношений в плоскости позволило сделать заключение о независимости характера анизотропии структурных свойств от термоупругих напряжений, возникающих при остывании гетеросистемы.
Ключевые слова анизотропия
Физика и техника полупроводников
2018
Т. 52, вып. 11. - С. 1300-1303
Имя макрообъекта Юнин_исследовани