Индекс УДК | 621.315.592 |
Автор | Окулич, Е. В. |
Расчет влияния плотности ионного тока и температуры на кинетику накопления точечных дефектов при облучении кремния легкими ионами Электронный ресурс |
|
Ключевые слова | ионная имплантация |
Другие авторы | Окулич, В. И. |
Физика и техника полупроводников 2018 Т. 52, вып. 9. - С. 967-972 |
|
Имя макрообъекта | Окулич_расчет |