| Индекс УДК | 621.315.592 |
|
Влияние степени нитридизации сапфира и обогащения алюминием зародышевого слоя на структурные свойства слоев AlN Электронный ресурс |
|
| Аннотация | Изучено влияние атомарного алюминия, нанесенного на подложку сапфира, нитридизованную в разной степени, на качество слоев AlN, выращенных методом аммиачной молекулярно-лучевой эпитаксии. Нитридизация сапфира с формированием на его поверхности ~ 1 монослоя AlN обеспечивает рост слоев с более гладкой поверхностью и лучшего кристаллического качества по сравнению нитридизацией сапфира, приводящей к формированию нитридизованного слоя AlN толщиной ~ 2 монослоя. Изменение времени экспонирования нитридизованных подложек в потоке атомарного алюминия существенного влияния на параметры последующих слоeв AlN не оказывает. |
| Ключевые слова | нитридизация сапфира |
|
Физика и техника полупроводников 2018 Т. 52, вып. 6. - С. 643-650 |
|
| Имя макрообъекта | Малин_влияние |
